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一種新的離子鍍“黑”膜量產(chǎn)解決方案
發(fā)布時(shí)間：2012-08-08
一、市場(chǎng)現(xiàn)狀
“黑”色PVD裝飾膜近年來發(fā)展迅猛，在某些裝飾鍍膜領(lǐng)域甚至超過了傳統(tǒng)的金色和銀色，成為離子鍍裝飾膜市場(chǎng)的主流。黑色系大致分為深黑色和槍黑色兩種，主要應(yīng)用的產(chǎn)品包括：數(shù)碼產(chǎn)品外殼（主要是手機(jī)殼）及配件、表殼表帶、眼鏡架、高爾夫球具、小飾品等。
由于近年來PVD鍍“黑”膜技術(shù)的日臻成熟和普及，越來越多的鍍膜廠家已經(jīng)掌握了這項(xiàng)技術(shù)，可以鍍制出很好的黑色膜層。而此時(shí)，市場(chǎng)對(duì)“黑”膜的要求也越來越高，特別是在高端產(chǎn)品領(lǐng)域，不僅來對(duì)膜層色澤有更高的要求，而且對(duì)膜層的厚度、顏色均勻性、顏色重復(fù)性、耐磨性能以及附著力等各個(gè)方面都提出了更高的標(biāo)準(zhǔn)。
，表面光亮度高，很容易獲得0.8微米以上的“黑”膜，并且保持極好的膜層表面光亮度，做出來的“黑”膜顏色也更黑。特別是由中頻電源驅(qū)動(dòng)的非平衡磁控濺射對(duì)（孿生）靶技術(shù)被廣泛應(yīng)用在“黑”膜裝飾鍍生產(chǎn)上，大大改善了磁控濺射金屬離化率低，靶材容易“中毒”的缺點(diǎn)，而且圓柱形磁控濺射靶的應(yīng)用又很好的改善了矩形磁控濺射靶靶材利用率低的缺點(diǎn)。但是，磁控濺射由于鍍膜可控窗口窄，不易控制，所以對(duì)鍍膜工藝師的要求也相對(duì)更高。
二、一種新的離子鍍“黑”膜解決方案
丹普公司利用最新開發(fā)的4G電弧技術(shù)，成功的開發(fā)出能滿足市場(chǎng)要求的“黑”膜，為廣大客戶提供一種新的離子鍍“黑”膜的解決方案。
4G電弧技術(shù)簡(jiǎn)介：
4G電弧技術(shù)屬于陰極電弧技術(shù)的范疇，只是在傳統(tǒng)電弧的基礎(chǔ)上，增加了一套驅(qū)動(dòng)組件，以改善電弧技術(shù)的一些技術(shù)缺陷，以滿足市場(chǎng)對(duì)膜層質(zhì)量的更高要求。
陰極電弧技術(shù)有很多的優(yōu)點(diǎn)是磁控濺射技術(shù)所不能比擬的，例如：金屬離化率高、沉積速率快、膜基結(jié)合力好、操作簡(jiǎn)單、穩(wěn)定性強(qiáng)、鍍膜室空間利用率大、生產(chǎn)效率高等。但是，用傳統(tǒng)電弧技術(shù)鍍制“黑”膜卻受到了極大的限制，傳統(tǒng)的陰極電弧由于很難在小弧流下穩(wěn)定工作，而弧電流大蒸發(fā)的金屬組分（Ti或Cr）多，相對(duì)應(yīng)，要生成高富C的TiC或CrC受到限制，很難獲得很深黑色的膜，而且由于電弧的最大的缺陷—“微液滴”的存在，傳統(tǒng)電弧不能鍍制厚度超過0.5微米的膜層，否則膜層粗糙不光亮，俗稱“發(fā)朦”，而且由于“微液滴”的存在，膜層存在針孔，還降低了抗摩擦和耐腐蝕性能。在目前市場(chǎng)鍍“黑”膜的應(yīng)用上，電弧和磁控濺射共同使用，但是大多只用作轟擊清洗、打底使用，有些高檔產(chǎn)品甚至已經(jīng)完全摒棄了電弧，只是用磁控濺射來鍍“黑”。
我公司最新開發(fā)的4G電弧技術(shù)通過配置特殊的驅(qū)動(dòng)裝置，在繼承了傳統(tǒng)電弧的所有技術(shù)優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，又在很大的程度上改善了傳統(tǒng)電弧的缺陷—“微液滴”。通過大量的實(shí)驗(yàn)，不斷的改進(jìn)工藝參數(shù)，成功的開發(fā)出質(zhì)量非常好的“黑”膜的工藝，完全出乎我們的預(yù)料，我們利用4G電弧技術(shù)開發(fā)的“黑”膜質(zhì)量完全滿足市場(chǎng)的要求，已經(jīng)給多家客戶提供樣品，并通過一系列測(cè)試，獲得客戶的好評(píng)，并引起市場(chǎng)的極大關(guān)注。
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