行業(yè)動(dòng)態(tài) 當(dāng)前位置:主頁(yè) > 關(guān)于丹普 > 動(dòng)態(tài)資訊 > 行業(yè)動(dòng)態(tài) >
離子氣相沉積鋁
發(fā)布時(shí)間：2017-08-07
離子氣相沉積(IVD)和通常的真空鍍膜是相同的,其共同點(diǎn)是使金屬燕發(fā),讓它凝在待鍍件的表面，鋁離子氣相沉積在精致件上鍍裝飾鋁,其鍍層較厚,較致密，并有較大的附著力。這種鍍是在鍍件和蒸發(fā)源之間,加以高的負(fù)電位而獲得的。把情性氣體引入真空系統(tǒng)并離子化，帶正電荷的離子,被吸引到帶負(fù)電荷的另件表面上。它們轟擊另件表面,使表面清潔,能夠得到較好的附著力。
接著輝光放電靜化后,繼以鋁的蒸發(fā)。當(dāng)它通過(guò)輝光放電區(qū)時(shí),它一部份就離子化了,使其加速到達(dá)另件。離子化提供了較好的分散能力,可使復(fù)雜形狀的工件得到均勻的鍍層。連續(xù)把U型鋁線饋送到蒸發(fā)源處,就可以獲得較厚的鍍層。
離子氣相沉積能代替電鍍鎘和真空沉積鎘以及鎳一鎘擴(kuò)散層。為了節(jié)約,可以在低合金鋼上鍍鋁來(lái)代替不銹鋼。鍍層不會(huì)產(chǎn)生氫脆,摩擦系數(shù)高于鍍鎘。鍍層顯示的性能與純鋁相同,它與鋁結(jié)構(gòu)有相溶性,并減少了鋁與不同金屬(如鋼)結(jié)合時(shí)的腐蝕問(wèn)題。在溫度超過(guò)800F時(shí)也可以用,不會(huì)降低基體的機(jī)械性能,此外這種鍍復(fù)方法不會(huì)造成環(huán)境污染。
聲明：本站部分圖片、文章來(lái)源于網(wǎng)絡(luò)，版權(quán)歸原作者所有，如有侵權(quán)，請(qǐng)點(diǎn)擊這里聯(lián)系本站刪除。
| 返回列表 | 分享給朋友： |
京公網(wǎng)安備 11010502053715號(hào)